第49章 舆论狙击
第49章 舆论狙击 (第2/3页)
“物理极限？”苏宇笑了，按下遥控器。他身后巨大的屏幕上，缓缓展开了一张复杂的工程蓝图——极紫外光源腔体、多层膜反射镜阵列、双工件台纳米级定位系统、整机装配爆炸图，标注精确到微米级的公差参数，密密麻麻的工艺路线铺满整个屏幕。
“各位，请看大屏幕。”苏宇的语速不快，却字字清晰，“这是星辰光刻EUV-001的完整技术蓝图。极紫外光源波长13.5纳米，出光功率500瓦，双工件台定位精度0.1纳米，光学系统分辨率0.5纳米。”
“我们已经在光源腔体设计上，采用了全新的等离子体约束方案，解决了高功率下的碎屑污染问题；光学镜组采用多层膜镀膜工艺，反射率做到70%以上——这每一项数据，都比艾斯摩尔现役机型高出整整一代。”
会场里，先是死寂，然后是此起彼伏的倒吸冷气声。
前排的技术专家们再也坐不住了。几位龙国半导体行业的元老凑在一起，压低声音争论着屏幕上的参数：
“出光功率500瓦？艾斯摩尔现役机型的功率才350瓦！”
“光学分辨率0.5纳米……这个数字如果属实，那意味着艾斯摩尔一代人的技术积累，直接被跳过了！”
“关键不是参数。”一位白发苍苍的老专家盯着蓝图，声音发颤，“是这套方案的完整性。从光源到光学到工件台，所有子系统之间没有任何断层——这说明它不是某个实验室的幻想，而是一整套已经跑通的工程方案。”
“如果真是这样……”他顿了顿，像是终于说服了自己，“龙国，真的要翻身了。”
外国记者们却并不买账，一个接一个站起来质问：
“苏先生，光有蓝图有什么用？艾斯摩尔造EUV花了二十年！你们凭什么说三个月？”
“这些图纸从何而来？是星辰自主研发，还是……窃取？”
问题尖锐，全场气氛骤然紧张。
苏宇却毫不慌乱。他抬手示意安静，声音平静：“图纸从何而来，这个问题，等三个月后光刻机点亮的那一刻，全世界自然会知道答案。”
“至于为什么敢说三个月——”他目光如炬，“因为艾斯摩尔的路，是在黑暗里摸索了二十年。而我们，是拿着完整的地图，直接跑向终点。”
“三个月后，魔都，全球直播首台国产EUV光刻机点亮仪式。我苏宇，说到做到。”
“如果我做不到，”他顿了顿，一字一句，“星辰光刻，当场解散。我苏宇，从此退出科技行业，永不踏足。”
全场寂静了三秒。
下一秒，雷鸣般的掌声和欢呼声几乎掀翻屋顶。
“苏总牛逼！”“龙国牛逼！”“星辰！星辰！”
直播间的弹幕更是彻底疯了——
“他敢拿整个公司赌！”“就冲这份底气，老子信他！”“三个月！我等三个月！”
就在这时，林晚晴的直播间里，画风突然一转。她拿出了一块小小的芯片模型，对着镜头，声音清脆响亮：
“各位家人们，刚才你们也看到了，我们苏总放话了，三个月造0.5纳米EUV！那肯定有人要问了，造这么牛的光刻机，到底要干嘛呀？”
“我告诉你们！”她把芯片模型举到镜头前，“这是我们星辰和冰芯联合打造的量子芯片——冰芯二号！它用的是量子计算路线，跟传统芯片完全不是一个维度！高通那个3纳米芯片，跑AI任务，它要算一秒的，咱们冰芯二号，算0.01秒！”
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